1. ICP-MS 시스템 1 셋(주장비)
1) 시료 도입부
2) 라디오주파수 발생장치
3) ICP-MS 인터페이스
4) 이온추출 시스템
5) 간섭제거 시스템
6) 질량분석기
7) 진공시스템
8) 검출시스템
9) 소프트웨어
2. 레이저 유도 분광 시스템 1 셋 (주장비)
1) 레이저소스 와 옵틱
(1) 레이저 소스: Nd:YAG 고체 레이저
(2) 펄스 폭 : < 5 nsec (FWHM) or shorter
(3) 파장 : 266nm 파장 or equivalent
(4) 반복률 : 최대 20Hz or equivalent
(5) 에너지 조절 : 연속가변 광감쇠기가 통합된 레이저 에너지 모니터링
(6) 레이저 셔터 : 레이저 에너지 안정화를 위한 자동화된 레이저 셔터
(7) 레이저 펄스 에너지 : 25mJ at 266nm or less
(8) DI 워터 냉각 시스템
(9) 레이저 안전 : Class 1 레이저 제품, 레이저 인터락 보호, 샘플 영역은 광 필터로 차폐
(10) 5X 대물렌즈 또는 그에 상응
(11) 스팟 사이즈 : 266nm 파장에서 10 – 150 micron 또는 그 이상
2) 스펙트로미터 와 검출기
3) 스테이지 와 스테이지 조정
4) 이미징 옵틱
5) 샘플 챔버 와 가스조절기
6) 소프트웨어
3. 독립형 물순환 냉각 시스템 1 셋(부대장비)
- 공랭식 냉각 시스템 (60Hz).
4. ICP-MS 자동시료주입장치 1 셋(부대장비)
5. 데이터 시스템 1 셋(부대장비)
6. 악세서리
1) PFA 재질의 네불라이저 2 개
2) 석영 스프레이 챔버 2 개
3) SEM 디텍터 1 개
4) 소모품 킷 1 킷
(1) 샘플 콘 1 개
(2) 스키머 콘 1 개
(3) 샘플 콘 가스킷 20 개
(4) 연동 펌프 튜빙 1 pk
(5) 테프론 튜브 5 m
(6) 테프론 튜브 1 pk
(7) 토치 2 개
(8) 토치 인젝터 2 개
5) He 고순도 셀가스 실린더, 레귤레이터 1 셋
6) 멀티 표준 용액, QC1, QC2, QC3, QC4 1 셋
7) 정전압장치 1 셋
8) 후드, 배기 장치

I. 원리 및 특징
1. 원리: 유도결합플라즈마 질량분석기는 원자의 고유한 질량 차이를 이용한 극미량 원소 분석 장비로써 고온의 플라즈마를 소스로 사용하여 물질을 이온화시키고 이온화된 물질이 사중극자를 통과하여 분리된 이온의 수를 감지하여 특정 질량-전하비 (m/z)를 지니는 이온의 양을 통해 이온의 양을 분석하는 방법입니다.
2. 특징
- 용액 내 무기 원소의 정성/정량 분석장치
- 고체시료의 도금, 양극산화, 화성처리 등 표면 피막 성분 분석 가능 (Laser Ablation Microprobe 옵션)
- 도금용액, 전후처리용액, 수세수 용액 내 금속 및 준금속, 일부 비금속 성분 정량 분석
- 다원소 동시분석 및 극미량 분석

- 도금액 조성 및 분술물 함량 분석
- 금속 도금시편 불순물 분석
- 금속이 도금된 플라스틱 표면 불순물 분석
- 금속합금 성분 분석
- 다차원세라믹 구성비 분석
- 도금 폐수내 양이온 분석

1. 표면처리분야 뿌리산업체 기업(기술) 지원
1) 시제품 제작/개발 지원
- 습식 도금, 아노다이징 공정 파일럿 장치를 활용한‘On-site’시제품 개발
- 파일럿 공정 라인의 용액 모니터링 및 관리
- 시제품 제작시 용액 분석의 현장 즉시 지원
2) 제조공정고도화 기술 개발 및 현장 애로기술 해소 지원
- 개별 장비를 활용한 ‘One-point’분석 지원
- 표면처리 기업의 R&D 수행을 위한 분석 지원 : 도금 용액, 도금 층 및 모재 성분 분석
2. 부산뿌리기술지원센터 자체 활용
1) 센터 전용 시설 오폐수 관련 처리 및 수질 관리에 활용
- 친환경, 청정 표면처리 센터 구축
: 파일럿 공정 등 센터 운영관련 발생 폐수 → 무폐수 방류장치, (세척수 등)2차 폐수처리장치 처리
- 처리 후 방류수 등에 대한 모니터링 기재로 활용