개별처리조 용적 기준 : 50x70x80(cm)(WxLxH)
/ 적용제품면적 기준 : 1,800cm2 이상
- 19개 작업조, 전 • 후처리조, 수세조 구성
- 룸하우징 : 3.5×20×4(M)(W×L×H)이내
- 전처리조 : 탈지조, 에칭조, 디스머트조, 징케이트조, 박리조 (여과 및 순환 장치 포함)
- 수세조 : 2단수세조 3기, 3단수세조 2기
- 작업조 : 아노다이징조, 플라즈마전해조, 도금조, 팁코팅조 각 1기 (여과 및 순환 장치 포함)
- 후처리 : 착색조, 봉공처리조, 탕세조, (적외선) 열풍 건조로
- 메인프레임 및 캐리어장치
- 정류기 : 연질아노다이징용, 경질아노다이징용, 플라즈마전해용 교류고전압, 플라즈마 전해용 직류고전압, 전해도금용,
펄스-리버스
- 냉각칠러 : 아노다이징용, 플라즈마전해용
- 자동/수동 운전 및 모니터링용 통합 운전제어/모니터링 시스템

- Al/Mg 경량소재 (습식)표면처리 시제품제작이 가능한 파일럿 플랜트 설비
- 아노다이징 및 플라즈마 전해를 기본 공정으로 하여 용도에 따라 전해도금, 피막처리를 실시할 수 있는 다목적 표면처리 시스템
- 통합제어&모니터링 시스템에 따라 목적하는 표면처리(또는 개별공정)를 단독, 복합,반복적으로 실시할 수 있는 자동화 시스템
- 전처리, 본공정, 후처리의 전체 표면처리 공정 적용이 가능한 종합 설비 시스템
- 스테이션(Station) 형태의 전체 하우징 설비 내 전처리, 본공정, 후처리의 연속, 일괄 작업이 가능한 라인이 설치된 시스템
- 전처리, 본공정, 후처리 작업조 구성을 기본으로 스테이션 내 프레임에 일렬 설치 운영하고, 활용 및 유지보수 필요에 따라
탈착 및 교체가 가능한 시스템 구현
- 공기정화 장치를 포함하고, 작업 중 외부로의 유해물질 노출 차단이 가능한 친환경 설비 구성

Al/Mg 표면처리를 위한 특화 기술개발 확립 및 표면처리분야 첨단화
- Al/Mg 경량소재 내마모, 내식성, 부착성 향상 표면처리기술 개발
- 플라즈마전해산화 실용화 기술 개발 및 적용을 위한 기술 및 인프라지원
- 기업과 공동 기술개발을 위한 test-bed 공정 장비로 활용
- 실제 공정 적용 시 즉시 상용화가 가능한 수준의 기술 개발 플랫폼 역할

1) 습식 표면처리 뿌리기업의 시제품 개발 및 제작 지원
- 도금기업의 개발품 또는 시제품 제작 시 기존 대형 생산라인의 부적합, 공정 중단 등의 애로사항 발생
- 상용 생산중인 공정에 부담을 주지 않고 시제품, 테스트샘플 제작에 활용할 수 있는 Pilot plant 역할 수행
- Al/Mg 경량소재 양극산화/화성피막/플라즈마전해산화 시제품 제작․개발 지원
- Al/Mg 경량소재 표면처리를 위한 표면처리 용액 및 공정 조건 개발 지원
- 양극산화/화성피막처리 등 표면처리분야의 불량원인 규명, 품질향상, 제품개발 등 전반적인 기술지원(전방위적 지원 공정장비)
2) 습식 표면처리 뿌리기업의 R&D 기반 확보
: 업체들이 운영 중인 생산용 공정설비는, 개발 등을 목적으로한 작업조건(용액 조성, 온도, 전류밀도, 교반 등)의 변경에 대한 유연성이 매우 낮음
- 작업조건의 유연성 및 능동적 제어가 가능한 시스템을 통해 도금업체의 신기술, 공정관리 최적화 개발 지원에 활용
- 양극산화 표면처리 기업의 R&D역량 향상 및 기술 경쟁력 확보에 기여
- 양극산화 산업의 첨단화 견인을 위한 공동 R&D 발굴 및 수행에 활용
- 환경 유해 산업으로 인식되고 있는 습식표면처리산업에 청정도금 공정 구현 사례